硅烷（SiH?）是半導體制造中化學氣相沉積（CVD）、外延生長等核心工藝的關鍵前驅體：在CVD工藝中，硅烷通過熱分解或等離子體激發，在晶圓表面沉積硅薄膜、氮化硅（Si?N?）或氧化硅（SiO?）；在硅外延工藝中，硅烷作為硅源，與氫氣反應生成單晶硅外延層，支撐先進制程中芯片的晶體質量。

但硅烷具、易燃、易爆的特性：其職業接觸限值（TLV-TWA）僅為5ppm，短期接觸（TLV-STEL）不超過10ppm，泄漏后與空氣接觸可自燃（自燃溫度約20℃），燃燒產物為二氧化硅和水，同時釋放劇毒氣體；若濃度達到1.4%~96%（體積分數），還可能引發爆炸。因此，半導體工廠需對硅烷存儲鋼瓶間、輸送管路接口、CVD反應腔體、尾氣處理裝置等高風險區域進行24小時在線監測，確保泄漏隱患在“劇毒暴露"和“燃爆風險"發生前被精準識別。

1. 低濃度高精度檢測，覆蓋劇毒與燃爆雙重風險

• 量程與分辨率：采用進口電化學傳感器（針對劇毒特性）支持0-10ppm（監測），最小分辨率達0.1ppm，可精準捕捉“微量泄漏"（如管道接口0.5ppm緩慢泄漏）和“大量泄漏"（如鋼瓶閥破裂導致的LEL級濃度），滿足“預警"與“需求。

• 抗交叉干擾算法：內置硅烷特異性識別算法，可有效排除半導體車間常見氣體（如氨氣、氫氣、氟化氫）的交叉干擾，檢測誤差≤±3%FS，避免因其他氣體共存導致的“誤報/漏報"。

2. 快速響應與全鏈路聯動處置

• 極速響應性能：傳感器響應時間≤5秒（T90），配合“泄漏擴散預判模型"，可提前15秒預測泄漏擴散路徑（基于車間氣流模擬），為緊急處置爭取時間。

• 多維度聯動控制：支持與半導體工廠氣體監控系統（GMS）、工藝設備PLC、消防系統聯動：當檢測到硅烷濃度≥5ppm（TLV-TWA）時，自動啟動區域排風（換氣次數≥20次/小時）；濃度≥50%LEL時，立即切斷硅烷氣源閥門（通過電磁閥聯動），并觸發消防報警系統（如啟動惰性氣體滅火裝置），形成“監測-預警-處置-滅火"閉環。

3. 數據智能管理與合規追溯

• 全生命周期數據記錄：內置工業級存儲芯片，支持≥100萬條檢測數據（含濃度、時間、設備狀態）存儲，數據可通過OPC UA協議對接半導體工廠MES系統，滿足SEMI S8（半導體設備安全標準）中“危險氣體泄漏日志至少留存3年"的合規要求。

• 遠程監控與診斷：配備7英寸觸控屏，支持本地參數設置與數據查看；同時通過5G/以太網接入深國安云平臺，可實時查看多區域濃度曲線、設備運行狀態，并支持異常數據自動推送至管理人員手機端（短信/APP告警）。